material 版 (精华区)
发信人: teddy (心有灵犀),身份:(站务), 信区: material
标 题: //薄膜2003,6月考题回忆//
发信站: BBS 听涛站 (Sun Jun 29 09:52:55 2003), 转信
1,用三种方法制备CuAl2薄膜 (20分)
2,磁控溅射法相比二极溅射的优点及其原因(10分)
3,实验室一台旧的镀膜机,真空度8*10^-4 pa (??,忘了),去镀Al膜,
发现镀出来的 膜表面不光滑,蒸发源距离基片25CM,问不光滑的原因是什么?
在现有的实验设备基础上如何改善成膜质量
(key:利用散射百分数公式,f(AL)=0.1--->需要的真空度--->发现真空度不够....
自己发挥吧)
4,一道算抽气时间的题目,和以前的有一点点不同,给的是管子的流导,
不像以前给的是抽气泵的抽速,不过思路是一样的,小心一点就可以了
5,射频溅射的原理啊
6,算膜厚的题目,每年都有,就是点源和面源的那几个公式,小心一点
我就死在粗心上面了,sigh~~~
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