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发信人: ezi (娥子), 信区: material       
标  题: Re: ／／薄膜2003，6月考题回忆／／
发信站: BBS 听涛站 (Mon Jun 30 14:05:54 2003), 转信

第3题，镀膜机真空度8×10^-4Torr
       理论计算出来应该是2×10^-5Torr
       所以真空度不够
       好像是作业题里面有的 
【 在 teddy (心有灵犀),身份:(站务) 的大作中提到: 】
: 1，用三种方法制备CuAl2薄膜 （20分）
: 2，磁控溅射法相比二极溅射的优点及其原因（10分）
: 3，实验室一台旧的镀膜机，真空度8*10^-4 pa (??,忘了），去镀Al膜，
:   发现镀出来的 膜表面不光滑，蒸发源距离基片25CM，问不光滑的原因是什么？
:     在现有的实验设备基础上如何改善成膜质量
:     （key:利用散射百分数公式，f(AL)=0.1--->需要的真空度--->发现真空度不够....
:            自己发挥吧）
: 4，一道算抽气时间的题目，和以前的有一点点不同，给的是管子的流导，
:     不像以前给的是抽气泵的抽速，不过思路是一样的，小心一点就可以了
: 5，射频溅射的原理啊
: 6，算膜厚的题目，每年都有，就是点源和面源的那几个公式，小心一点
: ...................

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