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标 题: 我国超高密度信息存储再创“世界之最”
发信站: 听涛站 (Mon Jan 8 07:58:09 2001), 转信
新华网北京1月7日电(记者李斌)放大百万倍的显微图片,清晰地将一个常人难以想象的
微观世界展现在人们面前:纳米级的有机薄膜材料上,一个个直径仅有0.6纳米的信息存
储点犹如兵马俑一样井然有序,整齐划一… …不久前,我国科学家研制出迄今世界上信
息存储密度最高的有机材料,从而在超高密度信息存储研究上再创“世界之最”,保持
了从1996年起就占据的国际领先地位。
一纳米,是十亿分之一米。0.6纳米的直径,意味着信息存储的密度可达每平方厘米
10的14次方比特(信息存储基本单位),其信息容量比现有光盘高100万倍。按照这一密度
,可将美国国会图书馆的所有信息存放在一块方糖大的盘上。
信息存储、传输和处理将是提高社会整体发展水平最重要的保障条件之一,也是世
界各国高技术竞争的焦点之一。目前,各发达国家都已投入大量人力财力开展超高密度
、超快速数据存储技术的研究。但即使是目前国际最好水平,信息存储点的直径也仅有
6纳米,和我国相比落后了一个数量级。
材料是超高密度信息存储的关键。经过对数十种有机材料的反复筛选和实验,中国
科学院物理研究所高鸿钧研究员领导的研究小组,设计出有特色的电荷转移有机功能分
子体系作为信息存储的介质,利用其电学双稳态的特性成功实现了超高密度信息存储,
显示出在分子尺度上存储时具有稳定性、重复性和可擦除性好的独特优点。研究小组将
信息存储点的直径减小到1纳米左右,并可对信息点进行反复擦除。
科学家的论文发表在美国《物理评论快报》上,美国物理学会以《奔向下一代的CD
》为题将其推荐为“最值得读的一篇文章”,美国著名专家詹姆斯.托教授评价“ 这是
一件非常诱人的工作,基于有机体系的存储很可能具有应用前景”。
“这项技术要做到商品化、产业化还需要15年左右的时间。”高鸿钧说,“我们仍
将继续寻找更为合适的材料,像硅那样对电子技术产生革命性影响。”据悉,我国科学
家的有关成果有望被用来进一步研究纳米器件。
1996年,这个研究小组得到了点径为1.3纳米的信息点阵,点与点之间的间距为1.5
纳米左右,当时国际最高水平也仅为10纳米。自那以后,这个小组就始终站在了国际最
前沿。(完)
(新闻背景)超高密度信息存储大事记
新华网北京1月7日电(记者李斌)高鸿钧研究员领导的小组在世界上率先研制出了信
息存储密度最高的材料。那么,我国又是怎样一步步迈上信息存储技术的巅峰的呢?
“自从扫描隧道显微镜诞生以来,科学家就利用其纳米级局域的电场在不同的固体
表面上进行原子的操纵和纳米加工。”北京真空物理开放实验室学术委员会主任庞世瑾
研究员说。
起初的工作是在硅表面上实现的,他们在硅表面上提取、放置原子和加工沟槽;或
者在固体表面上沉积金等材料,形成类似小土包的单元。其目的之一,是为追求超高密
度的信息存储。
在国内,中国科学院北京真空物理开放实验室于1993年成功地实现了在硅表面上的
原子操纵和最小尺寸的纳米加工,用原子写出了“中国”,并画出了“中国地图”。但
是,基于这种存储机理的超高密度信息,因存在稳定性的问题而前景渺茫。因此,人们
继续探索新的存储机制,追求高稳定性、高存储密度和重复性。
1991年以来,国内外在这一领域的研究历程如下:
1991年,美国斯坦福大学在氮化硅-氧化硅-硅结构上得到了点径为75纳米的存储。
1993年,美国得克萨斯大学在光导材料上得到了点径为40纳米的存储。
1995年,日本电气公司在无机有机玻璃材料上把点径缩小到10纳米。
1996年,日本佳能公司在一种有机薄膜上得到10纳米的信息存储点径;北京真空物
理开放实验室在有机复合电荷转移体系上将点径缩小到1.3纳米。
1998年,日本在光导材料上将点径缩小到6纳米;北京大学获得了点径为6纳米的坑
存储材料;北京真空物理开放实验室获得0.8纳米的有机单体材料。
1999年,北京真空物理开放实验室将点径缩小到0.7纳米。
2000年,北京真空物理开放实验室将点径缩小到0.6纳米,并实现了擦除。(完)
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春花秋月了无痕,天边银月耀孤心。
秋去冬来空增岁,落叶无声潜入林。
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